Titel: On the importance of calibration standards definitions for on-wafer measurements up to 110 GHz
Autoren: Probst, Thorsten, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Fachbereich 2.2, Hochfrequenz und Felder
Zinal, Sherko, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Fachbereich 2.2, Hochfrequenz und Felder
Dörner, Ralf, Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik - FBH, Berlin, Germany
Arz, Uwe, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Fachbereich 2.2, Hochfrequenz und Felder
Beitragende: HostingInstitution: Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), ISNI: 0000 0001 2186 1887
Sprache:en
DOI:10.7795/EMPIR.14IND02.CA.20190403C
Art der Ressource: Text / Article
Herausgeber: Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB)
Rechte: Private use is allowed for non-profit purposes only.
Daten: Verfügbar: 2019-04-08
Datei: Datei herunterladen (application/pdf) 404.27 kB (413969 Bytes)
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Schlagworte on-wafer ; calibration ; substrate ; probes
Zusammenfassung: This paper reports on the follow-up evaluation of an on-wafer measurement comparison on custom-made and conventional alumina calibration substrates in the frequency range up to 110GHz. The focus of the current investigation is on the performance of different calibration methods used for correcting device under test (DUT) measurements on the custommade substrate. Four different calibration schemes are discussed and the results of the calibration methods are presented and compared.